Stoffels S., Posthuma N., Decoutere S., Bakeroot B., Tallarico A.N., Sangiorgi E., et al. (2019). Perimeter Driven Transport in the p-GaN Gate as a Limiting Factor for Gate Reliability. Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc. [10.1109/IRPS.2019.8720411].
Perimeter Driven Transport in the p-GaN Gate as a Limiting Factor for Gate Reliability
Tallarico A. N.;Sangiorgi E.;Fiegna C.;
2019
File in questo prodotto:
Eventuali allegati, non sono esposti
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.