Analysis of two alternative scaling strategies for sub-30 nm Double-Gate SOI MOSFETs / N.Barin; M.Braccioli; C.Fiegna; E.Sangiorgi. - STAMPA. - (2006), pp. 69-70. (Intervento presentato al convegno IEEE 2006 Silicon Nanoelectronics Workshop tenutosi a Honolulu, Hawai, USA nel 11, 12 Giugno 2006).
Analysis of two alternative scaling strategies for sub-30 nm Double-Gate SOI MOSFETs
BRACCIOLI, MARCO;FIEGNA, CLAUDIO;SANGIORGI, ENRICO
2006
File in questo prodotto:
Eventuali allegati, non sono esposti
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.