Very deep submicron process technologies are ideal application fields for NoCs, which offer a promising solution to the scalability problem. This article sheds light on the benefits and challenges of NoC-based interconnect design in nanometer CMOS. The authors present experimental results from fully working 65-nm NoC designs and a detailed scalability analysis.

Bringing NoCs to 65 nm

ANGIOLINI, FEDERICO;BENINI, LUCA
2007

Abstract

Very deep submicron process technologies are ideal application fields for NoCs, which offer a promising solution to the scalability problem. This article sheds light on the benefits and challenges of NoC-based interconnect design in nanometer CMOS. The authors present experimental results from fully working 65-nm NoC designs and a detailed scalability analysis.
A. Pullini; F. Angiolini; S. Murali; D. Atienza; G. De Micheli; L. Benini
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