M. Malvestuto, G. Scarel, C. Wiemer, M. Fanciulli, F. D'Acapito, F. Boscherini (2006). X-ray absorption study of Yb2O3 and Lu2O3 thin films deposited on Si(001) by atomic layer deposition. NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH. SECTION B, BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 246, 131-135 [10.1016/j.nimb.2005.12.020].

X-ray absorption study of Yb2O3 and Lu2O3 thin films deposited on Si(001) by atomic layer deposition

MALVESTUTO, MARCO;BOSCHERINI, FEDERICO
2006

2006
M. Malvestuto, G. Scarel, C. Wiemer, M. Fanciulli, F. D'Acapito, F. Boscherini (2006). X-ray absorption study of Yb2O3 and Lu2O3 thin films deposited on Si(001) by atomic layer deposition. NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH. SECTION B, BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 246, 131-135 [10.1016/j.nimb.2005.12.020].
M. Malvestuto; G. Scarel; C. Wiemer; M. Fanciulli; F. D'Acapito; F. Boscherini
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