I nanotubi di carbonio (CNT) presentano caratteristiche elettriche e meccaniche particolari che li rendono un materiale interessante per molteplici applicazioni. L'elevato aspect ratio e la capacit`a di sopportare grandi densit`a di corrente rendono i CNT particolarmente adatti ad applicazioni legate alla Field Emission. Per ottimizzare queste propriet`a `e necessario poterne controllare dimensioni e densit`a. Utilizzando una sintesi dei CNT di tipo CVD (Chemical Vapour Deposition) assistita cataliticamente, `e stato investigato come alcuni parametri sperimentali (substrato, temperatura e gas utilizzati) del processo influenzano densit`a e dimensioni delle nano-particelle di catalizzatore che fungono da seme per la crescita dei CNT.

Angelucci R., Cuffiani M., Dallavalle G.M., Malferrari L., Montanari A., Odorici F., et al. (2005). Ottimizzazione dei parametri di crescita CVD di CNT per Field Emission.. BOLOGNA : SIF.

Ottimizzazione dei parametri di crescita CVD di CNT per Field Emission.

CUFFIANI, MARCO;VERONESE, GIULIO PAOLO
2005

Abstract

I nanotubi di carbonio (CNT) presentano caratteristiche elettriche e meccaniche particolari che li rendono un materiale interessante per molteplici applicazioni. L'elevato aspect ratio e la capacit`a di sopportare grandi densit`a di corrente rendono i CNT particolarmente adatti ad applicazioni legate alla Field Emission. Per ottimizzare queste propriet`a `e necessario poterne controllare dimensioni e densit`a. Utilizzando una sintesi dei CNT di tipo CVD (Chemical Vapour Deposition) assistita cataliticamente, `e stato investigato come alcuni parametri sperimentali (substrato, temperatura e gas utilizzati) del processo influenzano densit`a e dimensioni delle nano-particelle di catalizzatore che fungono da seme per la crescita dei CNT.
2005
XCI Congresso Nazionale Società Italiana di Fisica
178
Angelucci R., Cuffiani M., Dallavalle G.M., Malferrari L., Montanari A., Odorici F., et al. (2005). Ottimizzazione dei parametri di crescita CVD di CNT per Field Emission.. BOLOGNA : SIF.
Angelucci R.; Cuffiani M.; Dallavalle G.M.; Malferrari L.; Montanari A.; Odorici F.; Rizzoli R.; Veronese G.P.
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